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日本 ORC UV照射装置 UV干燥处理器 HMW-615N-3
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日本 ORC UV照射装置 UV干燥处理器 HMW-615N-3

1它有自己的低压紫外灯,对电路板的损坏较小,****物质的能力。2当使用基板的振荡模式时,UV光均匀地照射到基板上。也可以应用切**氧的照射方法,吹扫氮气的照射方法。

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  • 地   址:
    江苏 镇江 句容市 江苏省句容市经济开发区科技新城科技大道1号
是否进口:否产地:日本加工定制:否
类型:紫外照度计品牌:日本 ORC 型号:HMW-615N-3
订货号:yw1224货号:yw1227测量范围:1
分辨率:2取样率:3精确度:1
解析度:2电源:110尺寸:30mm
规格:1是否跨境货源:否

日本 ORC UV照射装置 UV干燥处理器 HMW-615N-3详细介绍

日本 ORC  UV照射装置 UV干燥处理器 HMW-615N-3/HMW-615N-4  

UV干燥处理器

HMW-615N-3/HMW-615N-4/VUM-3073F

该装置通过在形成精细图案的过程中(例如半导体制造工艺和液晶基板制造工艺)将UV照射到残留在基板表面上的**物质,以非接触方式去除**污染物。 

可以清洁和重新形成表面而不损坏基板。

◆特点

1它有自己的低压紫外灯,对电路板的损坏较小,****物质的能力 。

2当使用基板的振荡模式时,UV光均匀地照射到基板上。

也可以应用切**氧的照射方法,吹扫氮气的照射方法。

◆ 仕 様

 

型式

HMW-615N-3

HMW-615N-4

VUM-3073F

使用ランプ

低圧UVランプ
  VUV-080/A-3.6U?5灯

低圧UVランプ
  VUV-100/A-5.3U?7灯

低圧UVランプ
  VUV-040/A-2.2U?4灯

照射距離

25mm

25mm

15mm

照射面積

300W X 300D

400W X 400D

200W X 200D

照射時間

0~10min(可変)

0~99min59sec(可変)

排気????除去

オゾン**用フィルター使用

外形寸法

750W X 700DX 1,435H 180kg

580W X 500DX 240H 25kg

部分型号:

QRM-2288/QRM-2300/QRM-2215/VUE-3020-172/VUS-3100-R/VUS-3100/HMW-615N-3/HMW-615N-4/VUM-3073F/VUM-3500/

VUS-3300/QRU-2161-F/QRU-2161-H/OHD-110M-ST/UV 300 W/UV 100 W/LUV-L330-Mix/LUV-L330-Mix2/UVS-201D-1/

UV-M10-P / S/UV-M03A/UV-M 08/UV-351 

以上信息仅供参考

说明:

1、以上数据仅供参考,产品详细参数请以厂家实际出厂为准;

2、厂家会不定期更新产品型号、外观、参数、图纸等,具体请咨询。

3、以上标价非实际售价,请咨询。

 


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